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奧首半導(dǎo)體功能電子材料榮登國家“十四五”成就展
2026-01-06 15:00:56
來源:衢州智造新城  作者: 張嬌坤 姜小軍

近日,“筑基強(qiáng)國路——中國制造‘十四五’成就展”在中國國家博物館開幕。展覽以制造業(yè)智能化、綠色化、融合化以及產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)高級化和產(chǎn)業(yè)鏈現(xiàn)代化為敘事主線,重點(diǎn)展示原材料、裝備、消費(fèi)品、電子信息等行業(yè)領(lǐng)域共300余件(套)展品。

浙江奧首材料科技有限公司(以下簡稱“奧首材料”)自主研制的四款產(chǎn)品——光刻膠清洗劑ISP800、光刻膠清洗劑ISP1100、低溫固化光敏聚酰亞胺光刻膠和等離子切割保護(hù)材料,作為“高端制造”與“產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)”板塊的標(biāo)志性成果精彩亮相,在國家級舞臺(tái)上展現(xiàn)硬核實(shí)力。

這四款產(chǎn)品主要面向芯片、先進(jìn)封裝等國家當(dāng)前重點(diǎn)發(fā)展的前沿領(lǐng)域。產(chǎn)品的研發(fā)應(yīng)用有助于提升國內(nèi)芯片制造的工藝水平、產(chǎn)品良率和長期可靠性,同時(shí)降低對羥胺等特定進(jìn)口原材料依賴,進(jìn)一步增強(qiáng)我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控能力。奧首材料通過攻克配方設(shè)計(jì)、工藝兼容、平衡性能等一系列具體難題,在高端半導(dǎo)體材料領(lǐng)域建立起差異化的競爭優(yōu)勢。

此次入選展覽,是對奧首材料堅(jiān)持自主創(chuàng)新、全力突破“卡脖子”技術(shù)路徑的高度認(rèn)可。面向未來,奧首材料將繼續(xù)以科技創(chuàng)新為驅(qū)動(dòng),緊密圍繞產(chǎn)業(yè)發(fā)展前沿需求,持續(xù)攻堅(jiān)下一代關(guān)鍵核心技術(shù),助推中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量發(fā)展。

(圖片來源:衢州智造新城)

編輯:韓夢晨
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